Американцы придумали дешевый способ производства 25-нанометровых процессоров

Исследователи Массачусетского технологического института разработали технологию, которая позволит выпускать процессоры по 25-нанометровому технологическому процессу, используя существующее сегодня оборудование на основе литографического способа выпуска чипов.

Литография подразумевает «рисование» интегральной схемы и используется производителями чипов с 1995 года. Сегодня применяют метод DUV-литографии с длиной волны 193 нанометра. В перспективе его должна сменить EUV-литография с длиной волны 13,5 нанометра. Однако переход на новую технологию потребует замены всего производственного оборудования.

До открытия ученых из Массачусетского технологического института считалось, что 25-нанометровые чипы можно производить лишь методом EUV-литографии. Но исследователи смогли создать образец такого чипа по используемой сегодня технологии.